Производство карбида кремния
Форма: форма комка/порошка
Порошок карбида кремния для огнеупорных материалов
Описание
Описание
Карбид кремния, или SiC, стал важным материалом при разработке технологий следующего поколения благодаря своим уникальным свойствам: высокой теплопроводности, высокой термостойкости и превосходным электрическим свойствам.
Карбид кремния широко используется в различных отраслях промышленности, таких как силовая электроника, автомобилестроение, аэрокосмическая и оборонная промышленность, благодаря его способности работать при более высоких температурах и напряжениях по сравнению с традиционными материалами.
Раньше SiC был доступен только в небольших количествах, и его было трудно производить из-за требуемых высоких температур и давлений. Однако благодаря последним технологическим достижениям производство SiC стало более эффективным и экономически выгодным.
Спецификация
| Модель | Процент компонента | |||
| 60# | Карбид кремния | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60мин | 15-20 | 8-12 | 3,5макс |
| 70# | 65мин | 15-20 | 8-12 | 3,5макс |
| 75# | 70мин | 15-20 | 8-12 | 3,5макс |
| 80# | 75мин | 15-20 | 8-12 | 3,5макс |
| 85# | 80мин | 3-6 | 3,5макс | |
| 90# | 85мин | 2,5макс | 3,5макс | |
| 95# | 90 минут | 1.0макс. | 1,2макс | |
| 97# | 95мин | 0.6макс. | 1,2макс | |
Производство SiC включает два основных процесса: химическое осаждение из паровой фазы и спекание. Химическое осаждение из паровой фазы предполагает рост слоя SiC на подложке при высоких температурах и низких давлениях. С другой стороны, спекание включает в себя консолидацию порошка SiC под действием тепла и давления с образованием твердого материала SiC.
Существуют различные типы технологий производства SiC, включая процесс сублимации, модифицированный метод Лели и метод PVT-роста. Каждый из этих методов имеет свои преимущества и недостатки, а выбор метода зависит от конкретного применения и требований.
Процесс сублимации включает нагревание порошка SiC в графитовом тигле при высоких температурах, в результате чего порошок сублимируется и осаждается на подложку. Этот метод подходит для получения кристаллов SiC высокой чистоты и качества.
Модифицированный метод Лели включает нагревание смеси порошка SiC и графита в тигле, в результате чего SiC осаждается на затравочный кристалл. Этот метод идеально подходит для производства монокристаллических пластин SiC для электронного применения.
Метод PVT-роста предполагает выращивание кристаллов SiC из затравочного кристалла при высоких температурах и давлениях. Этот метод предпочтителен для производства крупных высококачественных кристаллов SiC для силовой электроники.
В заключение отметим, что производство SiC играет важную роль в разработке технологий следующего поколения. Благодаря развитию технологий производства производство SiC стало более рентабельным и эффективным. Выбор метода производства зависит от конкретного применения и требований, а SiC имеет потенциал совершить революцию в различных отраслях промышленности благодаря своим уникальным свойствам.
Часто задаваемые вопросы
Вопрос: вы фабрика или торговая компания?
О: мы являемся производителем.
В: Сколько времени занимает ваша доставка?
О: Время доставки зависит от количества покупок и сезона производства.
Вопрос: какой у вас способ доставки?
О: экспресс-доставка, морская доставка доступны по вашему запросу.
горячая этикетка : производство карбида кремния
Отправить запрос
Вам также может понравиться
