Ультрачистый полупроводниковый материал Silicon 1101 553 441

Ультрачистый полупроводниковый материал Silicon 1101 553 441

Плавка осуществляется операционными методами тушения в течение определенного времени и регулярной концентрированной подкормки. В нормальных условиях заряду трудно снизиться автоматически. Состояние печи легко колеблется, и его трудно контролировать. Поэтому в производстве должны быть правильные суждения, своевременное лечение. Каждые 4 часа из печи, для точного литья, дробления и сортировки шлака в хранилище.

Описание

 

Описание

Плавка осуществляется операционными методами тушения в течение определенного времени и регулярной концентрированной подкормки. В нормальных условиях заряду трудно снизиться автоматически. Состояние печи легко колеблется, и его трудно контролировать. Поэтому в производстве должны быть правильные суждения, своевременное лечение. Каждые 4 часа из печи, для точного литья, дробления и сортировки шлака в хранилище.

Технические характеристики

кремний металлический 421
Си
Fe
Ал
Ca
99,3 процента
0.4 процента
0,2 процента
0,1 процента

d44729c056219442991d981184efa25.jpg




горячая этикетка : сверхчистый полупроводниковый материал кремний 1101 553 441

Вам также может понравиться

Сумки для покупок