Полупроводник кремниевой пластины FZ

Кремниевая пластина FZ представляет собой тип кремниевой пластины высокой чистоты, которая обычно используется в полупроводниковой промышленности. FZ расшифровывается как Float Zone, метод выращивания монокристаллического кремния.

Во время процесса FZ кремниевый стержень подвешивают вертикально в высокотемпературной печи, а расплавленную зону создают путем нагревания небольшого участка стержня. Расплавленная зона перемещается по длине стержня и по мере охлаждения затвердевает в монокристалл. Процесс повторяется несколько раз, пока вся длина стержня не превратится в единый кристалл.

Кремниевые пластины FZ имеют очень высокий уровень чистоты, уровень примесей обычно составляет менее одной части на миллиард. Эта чистота делает их идеальными для использования в высокопроизводительных электронных устройствах, таких как микропроцессоры, микросхемы памяти и солнечные элементы. Пластины FZ также используются в научных исследованиях и в производстве высокопроизводительных датчиков и детекторов.